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產品詳情
簡單介紹：
南京供應HORIBA崛場在線監控橢偏儀UVISEL Plus In-Situ
UVISEL Plus在線監控橢偏儀可以很容易的安裝在各類反應腔（PECVD、MOCVD、磁控濺射、蒸鍍、ALD和MBE），實時監控薄膜沉積或刻蝕過程。UVISEL Plus在線橢偏儀結合了速度快、靈敏度高、動態范圍寬和準確等優點，使其能夠在原子層水平監控沉積/刻蝕，即使過程速度比較快也可實現。
詳情介紹：
南京供應HORIBA崛場在線監控橢偏儀UVISEL Plus In-Situ國內各區域供應
- 高速、準確
- 完整集成了實時測量、建模和報告軟件包
- 便于在線和離線間切換
可獲得的信息
- 薄膜厚度
- 光學常數（n,k）
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材料組成
- 光譜范圍：190-885 nm，可擴展至 190-2100 nm
- 光源：75W氙燈或150W氙燈
- 探測系統：單點或實時光譜采集使用高靈敏度，寬動態范圍的PMT探測器和掃描單色儀，原位監控薄膜沉積/蝕刻
- 光斑尺寸@300：50μm , 100μm & 1mm
- 機械適配器：CF35或KF40法蘭
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